EPSYLONE

منبع مطالب نانو

epsylone — Wed, 18 Feb 2009 20:51:49 GMT

یکی از دوستان خواسته بود منبع مطالب مربوط به نانو رو بگم

این مطالب رو میتونید از این لینک پیدا کنید

پاسخ عسل خانم

epsylone — Thu, 04 Dec 2008 20:37:18 GMT

ممنون هستم که به وبلاگم سر زدین در جواب درخواستتون می تونم اینو بگم که بلا نسبت این فرهنگ بد کپی کردن ما ایرانیا باعث شده که از قرار دادن گزارش کارا تو وبلاگ پشیمون بشم . و همین الان هم گزارش کارای قبلی را از سایت بر می دارم با اینکه بیشترین بازدید از وبلاگم بخاطر گزارشکاراس . تنها کمکی که میتونم اینه که در مورد نوشتن گزارش کار و نحوه ی تنظیم مطلب و پیدا کردن مطالب کمک کنم فعلاً وقت ندارم ولی قصد دارم یه دستور العمل برا نوشتن گزارش کار درست کنم فعلاً میتونم به طور موضوعی به دوستان کمک کنم شما هم می تونین گزارشکاراتونو شروع کنین و هر کجا مشکلی براتون پیش اومد مطرح کنین

کتاب

epsylone — Sun, 16 Nov 2008 16:15:18 GMT

سلام

کتاب تمرین های استرئوشیمی کتابی که ۱۹۱ تا تمرین برای شیمی فضایی داره امیدوارم به دردتون بخوره

Stereochemistry Workbook--

کتاب بعدی اسمش "پیوند شیمیایی و ساختار مولکولی" هستش که کتاب جامعی هستش

chemical bonding and molecular geometry--

درخواست حمید جان

epsylone — Fri, 17 Oct 2008 17:06:58 GMT

سلام حمید جان

اول ممنونم که به وبلاگم سر زدی

در مورد کتابی که خواسته بودی من یه لیست بهت میدم از اینجا انتخاب کن کتابتو

سعی می کنم واست پیداشون کنم

لیست

این لیست کتابای مرتبط با سل ژل هستش

موفق باشی

فيلم هاي جالب براي آزمايشگاه شيمي

epsylone — Fri, 04 Apr 2008 15:21:22 GMT

سلام ، عيد همگي مبارك

دانشگاه MIT براي آموزش مباني كار در آزمايشگاه شيمي تعدادي فيلم آمزشي تهيه كرده كه من لينك مستقيم دانلودشون رو براتون گذاشتم ، اميدوارم براتون جالب باشه:

Volumetric Techniques

Column Chromatography

Using a Balance

Melting Point Determination

Using an Automatic Pipet

Making Buffers and Using a pH Meter

Distillation I Simple & Fractional Distillations

Distillation II Vacuum Distillations

Refluxing a Reaction

فايل ها پسوند rm دارند و با نرم افزار realone player اجرا مي شوند .

كتاب

epsylone — Thu, 13 Mar 2008 17:11:18 GMT

اول سلام

دوم معذرت به خاطر اينكه بيشتر از يه ماه مي شه كه آپ نكردم

فعلاً مطلب جديد نمي ذارم واسه جبران كتاب واسه دانلود مي زارم شما هم اگه كتابي مي خواين اسمشو بگين تا اگه داشته باشم بذارمش :

۱ - 60Exercises in Organic Synthesis

۲- Advanced Organic Synthesis Methods and Techniques

۳ - Laboratory Experiments for General, Organic, and Biochemistry

فعلا

نتایج نظر سنجی

epsylone — Sun, 13 Jan 2008 06:41:35 GMT

سلام
تو نظر سنجی تا حالا بخش کتاب از همه بیشتره ، من می خواستم از کتابایی که دارم واسه دانلود بزارم ولی فک کردم اگه خودتون کتابا رو درخواست بدین مفیدتر میشه . پس هر کتابی رو که می خوایین و به شیمی یا نانو ربط داره بگین ، منم اگه پیداشون کردم براتون میزارمش

بعدش بخش شیمی تجزیه بود که دارم یه مقاله در مورد شعله ی بونزن و تست شعله براتون آماده می کنم . بیشترش ترجمه ی مقاله ی ویکی پدیا س اما اضافاتم داره . انشالله بعد امتاحانات می زارمش

موفق باشین

رسوبدهی از فاز مایع

epsylone — Sun, 13 Jan 2008 06:33:55 GMT

رسوبدهي از فاز مايع
رسوب دهي فاز مايع به هر فرآيندي كه طي آن مواد در حالت مايع يا محلول از طريق تراكم يا واكنش به حالت جامد تبديل مي شوند، اطلاق مي گردد. از اين فرآيند براي تشكيل پوشش و رسيدن به خواص مختلف رسانايي، گرمايي، نوري ، مقاومت در برابر خوردگي و همچنين خواص مكانيكي به كار مي رود.

الكترو رسوب دهي
فرآيند الكترورسوب دهي(Electrodeposition) كه Electroplatingنيز ناميده مي شود محدود به مواد رسانا مي باشد.
دو روش براي رسوبدهي وجود دارد كه عبارتند از:
1) Electroplating
Electroless Plating (2
در روش اول، ماده در يك محلول مايع (الكتروليت) قرار مي گيرد. وقتي كه اختلاف پتانسيل الكتريكي بين الكترود نمونه و الكترود شاهد (معمولاً پلاتين ) برقرار گردد، يك واكنش اكسيد - احياء اتفاق مي افتد كه باعث تشكيل يك لايه از ماده روي نمونه و ايجاد گاز بر روي الكترود شاهد مي شود.
در روش دوم، محلول شيميايي پيچيده اي نياز است . در اين روش رسوب همزمان روي سطحي كه پتانسيل الكتروشيميايي مناسبي با محلول دارد، تشكيل مي شود. اين روش از آن جهت مناسب است كه نياز به پتانسيل الكتريكي خارجي ندارد. متأسفانه در اين روش كنترل ضخامت فيلم و هم شكل بودن آن مشكل است.

فرآيند الكترورسوب دهي براي ساخت فيلم هاي فلزي نظير مس، طلا، نيكل و... كاربرد دارد.

مايسل معكوس
اساس اين روش بسيار ساده است . دو تركيب شيميايي براي ايجاد محصول با يكديگر واكنش مي دهند .
چنانچه دو تركيب در مقادير زياد با يكديگر مخلوط شوند، ذراتي با اندازه بزرگ به وجود مي آورند. براي تشكيل نانوذرات، انجام چنين واكنش هايي مي بايست در ابعاد خيلي كوچكتر انجام شود. در اين فرآيند از دو فاز آبي و آلي استفاده مي كنند، كه با يكديگر مخلوط نمي شود ولي چنانچه با سرعت همزده شوند، قطرات يك فاز به صورت سوسپانسيون در ديگري حل مي شوند. اندازه اين قطرات با افزايش سورفكتانت يا شوينده تا حد خيلي زيادي ريز مي شود. مولكول هاي سورفكتانت روي سطح يك قطره آب جمع شده و آن را پايدار مي كنند . چنين قطره اي مايسل ناميده مي شود. از آنجايي كه قطره حاصله خيلي كوچك است به عنوان يك محيط واكنش ايده آل براي تشكيل نانوذره مي باشد. مقادير كمي از واكنش دهنده مي تواند به داخل اين قطره نفوذ كند و وقتي با واكنش گر دوم واكنش مي دهد، ذره خيلي كوچكي حاصل مي آيد. در اين فرآيند از دو ماده شيميايي كه يكي در فاز آلي و ديگر در فاز آبي حل مي شود، استفاده مي كنند. امولسيون مورد نياز از طريق مخلوط نمودن حجم كمي از فاز آبي درحجم بالايي از فاز آلي بدست مي آيد. اندازه قطرات آب وابسته به نسبت آب / سورفكتانت است. سورفكتانت بين قطره آب و فاز آلي قرار مي گيرد. فرايند بدين صورت است كه ماده شيميايي كه در آب حل مي شود به محلول اضافه شده و همزده مي شود، از آنجائيكه اين تركيب در فاز آلي حل نمي شود، به صورت يكنواخت در فاز آب حل مي گردد. سپس تركيب شيميايي دوم كه در فاز آلي حل مي شود به محلول اضافه مي گردد. مقادير خيلي كمي از آن وارد فاز آبي شده و با تركيب قابل حل در آب واكنش مي دهد و ذرات كوچك را حاصل مي آورد.
فرايند مايسل معكوس براي تهيه نانوساختارهايي نظيرBaTiO3, ZrO2,CdS, CdSe, CdTe, PbS, PbSe TiO2 استفاده مي شود. نانوذراتي كه از روش واكنش هاي رسوبي بدست مي آيند از اين روش نيز حاصل مي شوند.

پليمريزاسيون ميكروامولسيوني
ميكروامولسيونها فازهاي متعادلي شامل مايعات غير قابل استخراج نظير روغن و آب مي باشند كه به وسيله لايه هاي نازك حاصل از سور فكتانت پايدار مي شوند . ساختار ميكروامولسيون ها به عنوان ميكروراكتورهاي پليمريزاسيون عمل مي كنند. با انجام پليمريزاسيون مونومرها نانوذراتي در حدود 10 نانومتر بدست مي آيند . در اين فرايند پليمريزاسيون سريع بوده و پليمرهاي مونوديسپرس با وزن مولكولي بالا حاصل مي شوند . تئوري فرآيند با استفاده از روش آناليزيSANS مورد بررسي قرار مي گيرد.

سل ژل
فرآيندهاي سل ژل اولين بار در اواخر قرن نوزدهم كشف شد و از اوايل دهه 40 به طور گسترده اي مورد استفاده قرار گرفتند. پس از آن براي ساخت ژل ها در دماهاي پايين و تبديل آنها به شيشه فرآيندهايي توسعه يافتند. فرآيندهاي سل ژل روالي همه كاره براي ساخت مواد سراميكي و شيشه اي از محلول ها يا كلوئيدها ( كه مثل سوسپانسيون ها، ذرات در مايع نامحلول اند، اما ته نشين هم نمي شوند) مي باشد . به طور كلي فرآيند سل ژل عبارتست از انتقال سيستمي از يك فاز "سل" مايع به يك فاز "ژل" جامد. با كمك فرآيند سل ژل مي توان مواد سراميكي يا شيشه اي را در گستره اي از اشكال ساخت : پودرهاي فوق ريز يا كروي، روكش هاي فيلم نازك، الياف سراميكي، غشاهاي معدني ميكروحفره اي، سراميك ها و شيشه هاي يكپارچه ، و مواد آئروژل به شدت متخلخل.
مواد آغازين براي تهيه سل معمولاً نمك هاي فلزات معدني يا تركيبات آلي فلزي مثل آلكوكسيدهاي فلزي مي باشند. در يك فرآيند سل ژل نوعي، ماده پيش ساز در معرض يك سري از واكنش هاي هيدروليز و پليمريزاسيون قرار مي گيرد تا يك سوسپانسيون كلوييدي يا سل را تشكيل دهد . فرآوري بيشتر سل امكان ساخت اشكال مختلفي از مواد سراميكي را فراهم مي كند. فيلم هاي نازك را مي توان با انجام روكش دهي چرخشي يا روكش دهي غوطه وري روي يك زيرلايه توليد كرد . هنگامي كه سل در يك قالب ريخته شود، ژلي مرطوب شكل مي گيرد. با خشك كردن و فرآورش حرارتي، اين ژل به ذرات شيشه اي يا سراميكي متراكم تبديل مي شود .
اگر در شرايط فوق بحراني مايع موجود در يك ژل مرطوب خارج شود، ماده اي به سرعت متخلخل و با دانسيته فوق العاده اندك موسوم به آئروژل بدست مي آيد. با تنظيم كردن ويسكوزيته سل در يك دامنه مطلوب مي توان از سل اليافي سراميكي بدست آورد . پودرهاي سراميكي فوق ريز و يكنواخت را نيز مي توان با رسوب دهي، پيروليز پاششي يا روش هاي امولسيوني توليد كرد.
فرآوري نانوذرات به صورت سل ژل قابليت ايجاد قطعات ارزان قيمت را دارا مي باشد . نوعاً مخلوطي از ذرات سيليكاي نانومتري و افزودني ها در قالب جاي داده مي شود. سپس لازم است ژل مرطوب با كنترل دقيقي – براي پرهيز از ترك برداشتن – خشك شود . پس از آن مي توان ماده حاصل را تحت فرآوري بيشتر به شيشه اي شفاف تبديل كرد.
با استفاده از نانوذرات حاصل از مواد مبتني بر نمك و سراميك هايي همچون Al₂O₃ و Ni-YLaO₃ تعدادي زيرلايه كاتاليستي ساخته شده اند.
از فرآيندهاي سل ژل مي توان براي كنترل دقيق آغشته سازي نانوذرات تيتانيوم يا ژرمانيوم در فيلم هاي سل ژل دي اكسيد سيليكون استفاده كرد، تا بتوان ضريب شكست ماده حاصل را به كنترل درآورد . الياف را نيز مي توان از محلول هاي مواد پيش ساز بيرون كشيد يا ريسيد يا آنها را با فيلم هاي نازك روك شدهي كرد.

PVD&CVD

epsylone — Fri, 11 Jan 2008 07:56:06 GMT

پايين به بالا

در روشهاي پايين به بالا محصولي از مواد ساده تر به وجود مي آيد، مانند ساخت يك موتور از قطعات آن. در حقيقت كاري كه در اينجا انجام مي شود، كنار هم قرار دادن اتم ها و مولكول ها (كه ابعاد كوچكتر از مقياس نانو دارند ) براي ساخت يك محصول نانومتري است . تصور كنيد كه قادريم اتم ها و مولكول ها را به طور واقعي ببينيم و آنها را به طور دلخواه كنار هم قرار دهيم تا شكل مورد نظر حاصل شود . معمولاً روش هاي پايين به بالا ضايعاتي ندارند، هر چند الزاماً اين مسأله صادق نيست. مثلاً ممكن است جزئي از يك سيستم خودآرا براي فرآيند خودآرايي به كمك يك "هم جزء" نياز داشته باشد كه در محصول نهايي وجود نداشته و لذا از سيستم حذف مي شود.

رسوب دهي فاز گاز

رسوب دهي فاز گاز به فرآيندي اطلاق مي گردد كه طي آن مواد در حالت بخار از طريق تراكم و واكنش شيميايي به حالت جامد بر مي گردند. اين فرآيند براي پوشش دهي قطعات مختلف و رسيدن به خواص نوري، الكتريكي ، گرمايي، مكانيكي و مقاومت خوردگي ماده به كار مي رود. اين روش همچنين براي تشكيل فيلم ها و اليافي كه براي فيلتر كردن مواد كامپوزيت مصرف مي شوند، كاربرد دارد . فرآيندهاي رسوب دهي گازي به طور معمول در محفظه ی خلاء به دست مي آيد.

رسوب دهي شيميايي و فيزيكي بخار از مهم ترين روش هاي رسوب دهي فاز گاز هستند.

رسوب دهي شيميايي بخار(CVD)

رسوب دهي شيميايي بخار يك فرآيند شيميايي است كه براي رسوب فيلم هاي نازك از مواد گوناگون مورد استفاده قرار مي گيرد.

در يك فرآيند CVD يك لايه از ماده در معرض يك يا چند ماده تبخير شده قرار مي گيرد، و طي آن مواد اوليه با لايه ی مذكور واكنش داده (و/يا) تجزيه شده، محصول رسوبي مورد نظر را به وجود مي آورند . البته محصولات جانبي نيز به وجود مي آيند كه به وسيله گاز خارج مي شوند.

رسوب دهي شيميايي بخار به طور وسيع درتوليد نيمه هادي ها ( به عنوان يك بخش از فرآيند توليد نانوساختارهاي نيمه هادي) و براي رسوب فيلم هاي گوناگون نظير سيليكون هاي پلي كريستال ، آمورف، اپي تكسيال، سيليكون ، ژرمانيوم، تنگستن، سيليكون نيتريد، سيليكون اكسي نيتريد و تيتانيم نيتريد استفاده مي شود . فرآيند CVD براي توليد الماس سنتزي نيزكاربرد دارد.

رسوب دهي شيميايي در فشار اتمسفري(APCVD)

APCVDيك روش رسوبي است كه در آن واكنش در فشار اتمسفري انجام مي شود . فشار اتمسفري باعث مي گردد سرعت رسوب فيلم افزايش يابد و به حدود 600 تا 1000 نانومتر بر دقيقه مي رسد . در اين فرايند، بدليل تراكم سريع مولكول هاي گازي، هسته زايي هموژن صورت مي گيرد و فيلم هاي تهيه شده از اين روش اثرپذيري كمي از خود نشان مي دهند. همچنين بدليل داشتن تغييرات قابل اغماض محصول، اين روش كاربرد زيادي در صنعت دارد.

رسوب دهي شيميايي بخار لايه اتمي(ALCVD)

در فرآيند رسوب دهي شيميايي بخار لايه اتمي، دو ماده اوليه به عنوان مثال (آب و (_۳(Al(CH_۳)) به طور متناوب داخل محفظه واكنش وارد مي شوند. يكي از اين مواد در غياب ماده دوم روي سطح يك ويفر جذب شده، و دچار تغيير شيميايي نمي شود . جذب اين ماده تا اشباع شدن سطح ادامه مي يابد. سپس ماده ی دوم به محيط اضافه شده و واكنش انجام مي پذيرد . ضخامت فيلم با مقدار ماده ورودي به محفظه واكنش كنترل مي گردد. در اين روش امكان كنترل دقيق ضخامت فيلم و يك شكل بودن آنها وجود دارد.

رسوب دهي شيميايي بخار در فشار پايين(LPCVD)

اين فرآيند در فشار پايين تر از فشار اتمسفري انجام مي شود. در فشارهاي پايين ، واكنش هاي فاز گازي ناخواسته كاهش يافته، باعث بهبود يكنواختي فيلم روي ويفر مي گردد. روش ديگري كه در خلاء انجام شده و كاربرد محدودتري دارد، رسوب دهي شيميايي بخار با خلاء خيلي بالا(UHVCVD) است.

رسوب دهي شيميايي بخارآلي فلزي(MOCVD)

دراين فرآيند از مواد اوليه آلي فلزي نظير تانتاليوم اتوكسيد و تترادي متيل آمينوتيتانيوم (TDMAT) براي توليد روكش هايي از جنس اكسيد تيتانيوم(TiO_۲) و براي تهيه نيتريد تيتانيم(TiN) استفاده مي شود. وقتي اين روش تحت خلاء خيلي بالا قرار گيرد، MOMBE ناميده مي شود.

رسوب دهي شيميايي بخار پلاسمايي ميكروويو (MPCVD)

در اين روش ماده اوليه در پلاسمايي كه از برهمكنش امواج مايكروويو و مخلوط گازي ( معمولا مخلوط گازهاي CH_۴و H_۲) ايجاد مي شود، قرار مي گيرد .اين برهمكنش فرايند هسته زايي هتروژن را القا مي كند. در مرحله بعد هسته هاي مذكور به يكديگر چسبيده و فيلم يكنواختي را تشكيل مي دهند .جهت گيري هسته هاي اوليه وابسته به جريان DC اعمال شده و تاثيرات پلاسما مي باشد. مرفولوژي روكش هاي ايجاد شده از اين روش به چندين پارامتر نظير فشار، تركيب گاز، و بستر سيليكون و... بستگي دارد.

رسوب دهي شيميايي بخار پلاسمايي(PECVD)

در اين فرآيند از پلاسما براي افزايش سرعت واكنش شيميايي استفاده مي شود . روش PECVD باعث مي گردد رسوب در دماي پايين تشكيل شودكه در تهيه نيمه هادي ها بدليل به وجود آوردن محصول مناسب، از ضرورت بالايي برخوردار است.

CVD حاصل از پلاسما را در دماهاي پايين تري از CVDحرارتي مي توان انجام داد؛ مثلاً مي توان نانولوله هاي كربني را بر روي شيشه سودآهكي كه در ديگر روش ها بدليل استفاده از دماي بالا ذوب مي شوند، رشد داد. اين راهكار مخصوصاً براي توليد وسايل نمايشگر اميدواركننده است. يكي از مثال هاي اين روش استفاده از پلاسماي مونوكسيد كربن و هيدروكربن هاي مختلف براي ساخت نانولوله ها بر روي كاتاليست مي باشد.

رسوب دهي شيميايي بخار گرمايي سريع(RTCVD)

در روش هاي RTCVD از لامپ هاي گرمايي و يا روش هاي ديگر براي گرما دادن سريع ويفر استفاده ، مي شود. گرما دادن ويفر باعث مي گردد واكنش در سطح ويفر انجام شده و از مقدار آن در فاز گازي كاسته مي شود، دراين حالت نانوذرات معلق كمتري توليد مي گردد.

رسوب دهي شيميايي بخار پلاسمايي دور(RPCVD)

اين روش مشابه روش PECVD است و تنها تفاوت آن در موقعيت ويفر نسبت به پلاسماي ورودي است. توضيح اينكه ويفر به طور مستقيم در ناحيه تخليه پلاسما قرار نمي گيرد. خارج كردن ويفر از ناحيه پلاسما باعث مي گردد فرآيند در دماي اتاق انجام شود.

رسوب دهي شيميايي بخار با خلاء خيلي بالا(UHVCVD)

در روش UHVCVD انواع ساختارهاي نانوبلوري مي توانند ايجاد مي شوند . اين روش براي توليد ويفرهاي چند لايه اي و فيلم هاي اپي تكسيال با كيفيت بالا نظير ژرمانيوم سيليكون نيز كاربرد دارد.

رسوب دهي فيزيكي بخار(PVD)

PVD روشي است كه در آن از عوامل فيزيكي براي رسوب فيلم هاي نازك مواد گوناگون بر روي سطوح مختلف (نظير ويفرهاي نيمه هادي) استفاده مي شود.اين روش براي ساخت قطعاتي كه شامل اجزاء نيمه هادي هستند كاربرد دارد .PVD روش هاي مختلفي دارد كه عبارتند از : كاتدپراني (اسپاترينگ)، سوخت اكسيژن با سرعت بالا (HVOF) ،رسوبدهي ليزر پالسي و رسوب تبخيري.

رسوب تبخيري

در اين روش با استفاده از گرما ماده ذوب شده و فشار بخار آن به سطح مناسبي مي رسد . اين فرآيند در خلاء انجام مي شود تا بخار حاصله با مولكول هاي گاز موجود محفظه واكنش ندهد و در فيلم ايجاد شده ناخالصي مشاهده نگردد. مواد اوليه بعد از تبخير روي سطح سرد رسوب كرده و فيلم نازكي را بوجود مي آورند . در اين فرايند فقط موادي كه فشار بخار بالا دارند بدون آلودگي در فيلم حاصله رسوب مي كنند.

روش كاتدپراني(اسپاترينگ)

كاتدپراني يك روش فيزيكي است كه در آن اتم هاي يك هدف جامد با استفاده از بمباران يون هاي پرانرژي به صورت گاز در آمده، به بيرون پرتاب مي شوند. به دليل برخورد يون ها به ماده، اين فرآيند مي تواند به بازي بيليارد تشبيه شود كه يون اوليه(Cue Ball) به خوشه بزرگي از اتم هاي فشرده به هم (توپ هاي بيليارد ) برخورد مي كند. اولين برخورد باعث هل دادن اتم ها به داخل خوشه اتمي مي گردد و برخوردهاي متعاقب باعث مي شود كه اتم هاي سطح از يكديگر دور شوند. به نسبت تعداد اتم هاي دور شده از سطح به يون اوليه بازدهدكاتدپراني گفته مي شود كه مقدار آن در فرآيند اسپاترينگ مهم است . عوامل ديگر كه بر بازده اسپاترينگ تأثير مي گذارند، عبارتند از انرژي يون اوليه، جرم يون و اتم هاي هدف و انرژي اوليه اتم ها در نمونه.

يونهايي كه براي فرآيند اسپاترينگ استفاده مي شوند به وسيله پلاسما حاصل مي شوند. براي رسيدن به شرايط بهينه اسپاترينگ روش هاي گوناگوني براي ا صلاح خواص پلاسما، خصوصاً دانسيته آن ، استفاده مي شوند كه شامل استفاده از جريان متناوب فركانس راديويي(RF)، ميدان هاي مغناطيسي و ولتاژ پايه مي باشند . در كاتدپراني رسوبي، اتم هاي كنده شده به حالت گازي درآمده ، و در اين حالت تعادل ترموديناميكي ندارند . در نتيجه تمايل دارند در سطوح موجود در داخل محفظه رسوب نمايند . اين فرآيند به طور وسيع در صنايع نيمه هادي براي رسوب فيلمهاي نازك از مواد گوناگوني نظيرGaAs روي سيليكون و يا ديگر ويفرها كاربرد دارد . اين فرآيند كه در دماي خيلي پايين انجام مي شود براي تهيه ترانزيستورهاي فيلم نازك نيز ايده آل است . اين ترانزيستورها در ديودهايPIN استفاده مي شوند.

رسوبدهي ليزر پالسي

رسوبدهي ليزر پالسي نيز يك روش رسوب دهي فيلم نازك است كه در آن از باريكه ليزر براي تبخير مواد و رسوب دوباره آنها به صورت فيلم هاي نازك استفاده مي شود . غالباْ خلاء بالايي در اين فرايند لازم است ،پالس هاي ليزر متمركز شده به طور مستقيم مواد را از حالت جامد به پلاسما تبديل مي كنند . پلاسماي حاصله با انبساط حرارتي از سطح دور مي شوند كه اين عمل باعث سرد شدن پلاسما و تبديل آن به گاز مي گردد. خلاء بالا باعث مي گردد تا وقتي كه ماده به سطح سرد نرسيده است حالت گازي خود را حفظ كند و با رسيدن به سطح سرد فيلم نازكي را تشكيل مي دهد.

روش سوخت اكسيژن با سرعت بالا(HVOF)

همچون روش هاي ديگر، اين فرايند براي ايجاد يك پوشش و لايه سراميكي بر روي مواد جهت مقاوم سازي آنها در برابر خوردگي به كار مي رود. در اين فرآيند براي تهيه سوخت، مخلوط گاز و اكسيژن با يكديگر مخلوط شده، گاز حاصله از طريق يك نازل خارج شده و به سرعتي در حدود1500m/s مي رسد. پودر در جريان گاز تزريق مي شود و به سرعتي در حدود 800m/s مي رسد وقتي باريكه پودر به ماده مي رسد، روي آن پوششي را تشكيل مي دهد كه خلل و خرج خيلي كمي دارد.

فوتوليز و پيروليز ليزري

با تابش ليزر به تركيبات آلي فلزي، فلز اين تركيبات احيا مي شود . پس از تابش ليزر، غلظت فلز در تركيب بلافاصله بالا رفته و به حالت اشباع مي رسد. اين روش براي توليد ذرات ريز و خوشه هاي فلزي، سراميكي و غيره به كار مي رود. نشان داده شده است كه مي توان با فتوليز Fe(CO)_۵و با استفاده از يك ليزر اكسايمري خوشه هاي آهن 1 تا 30 اتمي توليد كرد.

سنتز بر پايه آئروسل

فرايندهاي بر پايه آئروسل، روش هايي رايج براي توليد صنعتي نانوذرات مي باشند. آئروسل ها ذرات جامد و مايع در فاز گازي هستند كه ابعاد آنها تا 100 ميكرومتر مي رسد . قبل از اينكه اساس علمي و مهندسي آئروسل ها فهميده شود، اين تركيبات در صنعت كاربرد داشتند . براي مثال، ذرات كربني كه در رنگدانه ها و تايرهاي ماشين استفاده مي شود، با سوختن هيدروكربن به دست مي آيد . رنگدانه تيتانيوم كه در پلاستيك ها و رنگ ها كاربرد دارد از اكسيداسيون تتراكلريد تيتانيوم حاصل مي شود، همچنين فوم سيليكا و تيتانيوم از تتراكسيدهاي مربوطه با روش پيروليز شعله اي به دست مي آيد. فيبرهاي نوري نيز با روش مشابهي ساخته مي شوند.

به طور مرسوم، اسپري براي خشك كردن و يا رسوب پوشش ها استفاده مي شود . اسپري تركيبات شيميايي بر روي سطح گرم يا داخل اتمسفر گرم باعث پيروليز تركيب شيميايي و تشكيل نانوذرات مي شود.

فرآيند اسپري (براي ايجاد آئروسل ) در دماي اتاق جهت توليد نانوذرات نيمه هادي و فلزات ديگر انجام شده است .نانوذرات CdS نيز با روش سنتز بر پايه آئروسل بدست آمده است . در اين فرايند قطرات ميكروني نمكCd در معرض اتمسفر هيدروژن سولفيد قرار مي گيرند.

تراكم شيميايي بخار(CVC)

در اين روش بخار ماده اوليه در حين عبور از ميان راكتور داراي ديواره هاي گرم تجزيه شده ، و هسته هاي نانوذرات را در فاز گازي به وجود مي آورد. نانوذرات حاصله به وسيله جريان گاز انتقال يافته و روي ميله سرد (Cold finger) جمع مي گردند، اندازه نانوذرات به دماي محفظه ، تركيب ماده اوليه، فشار و زمان اقامت ماده اوليه بستگي دارد.

برخلاف راهكارهايCVD ،در اين روش نانوذرات بدون استفاده از هيچ زيرلايه اي، تشكيل مي شوند . به عنوان مثال تنها با مخلوط كردن هيدروكربن ها و فلزكاتاليست در محفظه واكنش نانولوله ها ساخته مي شوند. اين روش به عنوان راهي مناسب جهت توليد انبوه پيشنهاد شده است.

سنتز سيال فوق بحراني

سيالات فوق بحراني (SCF) يا گازهاي فشرده بعنوان يك محيط مناسب براي كريستاليزاسيون و توليد نانوپودرها پيشنهاد شده اند. سيالات فوق بحراني داراي خواص شبه گازي و شبه مايع مي باشند كه علاوه بر ارزان بودن، اثر آلوده كنندگي نيز ندراند و موجب كنترل دقيق فرآيند كريستاليزاسيون شده و توانايي توليد ذرات بسيار ريز با مورفولوژي و توزيع اندازه ی ذرات مناسب را فراهم مي آورند. فرآيندهاي مختلف توليد نانوپودرها بر پايه سيال فوق بحراني شامل انبساط سريع سيالات فوق بحراني (RESS)، آنتي حلال فوق بحراني (SAS) ، ذرات حاصل از محلول اشباع گازي (PGSS) و كاهش فشار محلول آلي مايع منبسط شده (DELOS) مي باشند.

انبساط سريع سيالات فوق بحراني(RESS) يك روش كريستاليزاسيون است كه از خواص يك سيال فوق بحراني مانند CO_۲ بعنوان يك حلال براي تسهيل توليد نانوپودر استفاده مي كند . فرآيند RESS در دو مرحله صورت مي گيرد : انحلال پذيري و تشكيل ذره . نيروي محركه فرآيند از طريق كاهش سريع فشار محلول فوق بحراني توسط نازل تأمين مي شود و منجر به هسته زايي سريع و توليد ذرات ريز مي شود.

فرآيند RESS داراي مزاياي متعددي است . هرچند اين فرآيند در فشارهاي بالا اتفاق مي افتد اما دماي مورد نياز نسبتاً پايين است، در نتيجه هزينه هاي انرژي پايين مي باشد. مزيت ديگر اين فرآيند عدم وجود خطرات محيطي است . البته بزرگترين مزيت اين فرآيند قابليت ساخت ذرات بسياركوچك در مقياس ميكرو و نانو با توزيع اندازه ذرات مناسب و عاري از حلال است . با وجود اين مزايا، اين روش داراي برخي از معايب نيز مي باشد. از معايب اصلي اين فرآيند مي توان به نسبت بالاي گاز/ماده بواسطه حلاليت پايين ماده، نياز به فشار بالا و مشكل جدايش ذرات زيرميكرون از حجم بزرگي از گاز در مقياس صنعتي اشاره كرد. يكي ديگر از روش هاي توليد نانوپودرها مبتني بر سيال فوق بحراني، فرآيند آنتي حلال فوق بحراني(SAS) است كه از سيستم هاي دوتايي حلال/ آنتي حلال براي توليد ميكروپودرها و نانوپودرها استفاده مي كند.در اين روش، سيال فوق بحراني( بطور مثال _۲ CO) به عنوان يك آنتي حلال عمل مي كند و باعث متبلور شدن جسم حل شونده مي شود. نيروي محركه اصلي براي اين فرآيند تشكيل قطره است كه از طريق برهم كنش حلال آنتي حلال بوجود مي آيد.

فرآيند PGSS براي ساخت نانوذرات با توانايي كنترل توزيع اندازه ذرات بكار برده مي شود . نيروي محركه فرآيندPGSS ،يك افت دماي ناگهاني محلول در دماي زير نقطه ی ذوب حلال است . در نتيجه اين عمل محلول از فشار كاري به شرايط اتمسفري تغيير وضعيت مي دهد و در نتيجه مي توان اثر ژول تامسون را مشاهده كرد. سرمايش سريع محلول موجب تبلور جسم حل شده مي شود و هسته زايي هموژن براي تشكيل ذرات بوجود مي آيد.

مزيت مهم فرآيند PGSS نياز آن به فشار پايين تر در مقايسه باRESS ،مصرف پايين تر گاز بخاطر نسبت هاي كمتر مايع /گاز و توانايي تشكيل نانوپودرها بدون نياز به حلال مي باشد كه هزينه هاي عملياتي را در دو حالت كاهش مي دهد. اولاً اينكه نياز به حلال هاي شيميايي گران، كاهش مي يابد. ثانياً به دليل عدم بكارگيري حلال ها، محصول از خلوص بالايي برخوردار است و نياز به حذف باقي مانده حلال نمي باشد.

روش كاهش فشار يك محلول آلي مايع منبسط شده، فرآيندي است كه از يك سيال فوق بحراني بعنوان كمك حلال براي تشكيل نانوپودرها استفاده مي كند . فرآيند DELOS براي حل شونده هاي آلي درحلال هاي آلي و مخصوصاً براي توليد پليمرها، رنگ ها و ذرات دارويي مفيد است . زيرا در روش هاي متداول كاهش اندازه ذره به دليل محدوديت فيزيكي و شيميايي غيرممكن مي باشد. نيروي محركه براي فرآيندDELOS ، افت دماي بزرگ و سريع مي باشد.

کتاب مجازی شیمی آلی

epsylone — Thu, 27 Dec 2007 08:46:19 GMT

سلام
داشتم نتایج نظرسنجی رو نگا می کردم دیدم که اولاً زیاد که نظری ندادین اما فعلاً تجزیه و کتاب بیشتر بود منم یه کتاب معرفی می کنم :
این کتاب واسه دانلود نیس ، همش تو نت قابل دسترسه ، یه کتاب مجازی واسه شیمی آلی ، من خودم یه نگاهی کردم بهش فک کنم به درده خیلی ها بخوره

آدرس سایت اینه

واسه تجزیه هم مطلب می زارم منتظر باشین ، تو قسمت نظرات هم بگین از چی مظلب بزارم . از این به بعد آخر هر هفته موضوعی که تو قسمت نظر سنجی رای بیشتری داشته باشه واسش مطلب می زارم